ASML: fournit à Intel un système de lithographie EUV

<p>(CercleFinance.com) - Dans le cadre d'une collaboration de longue date entre les deux partenaires, Intel annonce avoir émis son premier bon de commande à ASML pour la livraison du premier système TWINSCAN EXE:5200, un système de lithographie EUV (lithographie extrême ultraviolet) permettant de produire plus de 200 wafers (disques semi-conducteurs) par heure pour l'industrie. </p>